Rocky Mountain Instrument Co.
1957年に設立されたRMI社は、光学部品およびコーティング業界で長い経験を持つ精密光学のリーディングカンパニーです。
深紫外線から遠赤外線までの幅広い波長範囲で動作する精密光学機器を専門としています。
キューブ ビームスプリッター RMI
キューブビームスプリッター(偏光子)
偏光キューブビームスプリッターは、2つの直角45°プリズムが接合されて形成しています。
斜辺は、すべての誘電性の偏光に敏感なコーティングでコーティングされており、
入射した非偏光の単色ビームをS偏光成分とP偏光成分に分離するように設計されています。
透過ビームの消光比（Tp / Ts）が1000：1を超えています。
2つの直交する偏光ビームは、キューブから互いに90°で出ます。
すべての入口と出口の表面は、高効率、狭帯域、反射防止コーティングでコーティングされています。
RMI標準仕様
| 材質 |
BK7, UVFS, FS、CaF2
|
| 入射角 | 0° |
| 反射角 | 90° |
| 表面 | BK7, UVFS, FS : λ/20 で 633 nm |
| CaF2 : λ/4 で 633 nm | |
| 透過波面 | 通常633 nmでλ/ 4 |
| 表面精度 | BK7, UVFS, FS : 10-5 |
| CaF2 : 20-10 | |
| 直径誤差 | ±0.010 |
| 透過ビーム偏差 | < 3 minutes |
| 反射ビーム偏差 | < 6 minutes |
| チャンファー | 0.010″ – 0.030″ at 45º |
| 有効径 | エッジ寸法の中央85% |
| 反射率 | Rs > 99.9% |
| 透過率 | Tp > 95% |
| 消光比 | Tp/Ts > 1000:1 |
| 反射防止コーティング | 表面あたりR≤0.25％、 すべての入口および出口表面 |
ブロードバンド キューブビームスプリッター(偏光子)
ブロードバンドキューブビームスプリッターは、2つの直角45°プリズムが接合されて形成しています。
斜辺は、金属と誘電体の組み合わせの部分反射コーティングでコーティングされています。
入射多色ビームは、45/45±5％の比率（R / T）で反射成分と透過成分に分けられます。
すべての入口と出口の表面は、高効率、広帯域、反射防止コーティングでコーティングされています。
RMI標準仕様
| 材質 |
BK7, UVFS, FS、CaF2
|
| 入射角 | 0° |
| 反射角 | 90° |
| 表面 | BK7, UVFS, FS : λ/20 で 633 nm |
| CaF2 : λ/4 で 633 nm | |
| 透過波面 | 通常633 nmでλ/ 4 |
| 表面精度 | BK7, UVFS, FS : 10-5 |
| CaF2 : 20-10 | |
| 直径誤差 | ±0.010 |
| 透過ビーム偏差 | < 3 minutes |
| 反射ビーム偏差 | < 6 minutes |
| チャンファー | 0.010″ – 0.030″ at 45º |
| 有効径 | エッジ寸法の中央85% |
| 反射率 | Rs > 99.9% |
| 透過率 | Tp > 95% |
| 消光比 | Tp/Ts > 1000:1 |
| 反射防止コーティング | 表面あたりR≤0.25％、 すべての入口および出口表面 |
高出力用 偏光キューブビームスプリッター(偏光子)
高出力偏光キューブビームスプリッターは、
高出力パルスおよびCWレーザーアプリケーションで使用するために特別に開発されました。
それらは、光学的に互いに接触する2つの直角45°プリズムから形成されます。
斜辺は、すべての誘電性の偏光に敏感なコーティングでコーティングされており、
入射した非偏光の単色ビームをS偏光成分とP偏光成分に分離するように設計されています。
消光比（Tp / Ts）は、透過ビームで200：1を超えます。
2つの直交する偏光ビームは、キューブから互いに90°で出ます。
すべての入口と出口の表面は、高効率、狭帯域、反射防止コーティングでコーティングされています。
RMI標準仕様
| 材質 |
BK7, UVFS, FS、CaF2
|
| 入射角 | 0° |
| 反射角 | 90° |
| 表面 | BK7, UVFS, FS : λ/20 で 633 nm |
| CaF2 : λ/4 で 633 nm | |
| 透過波面 | 通常633 nmでλ/ 4 |
| 表面精度 | BK7, UVFS, FS : 10-5 |
| CaF2 : 20-10 | |
| 直径誤差 | ±0.010 |
| 透過ビーム偏差 | < 3 minutes |
| 反射ビーム偏差 | < 6 minutes |
| チャンファー | 0.010″ – 0.030″ at 45º |
| 有効径 | エッジ寸法の中央85% |
| 反射率 | Rs > 99.9% |
| 透過率 | Tp > 95% |
| 消光比 | Tp/Ts > 1000:1 |
| 反射防止コーティング | 表面あたりR≤0.25％、 すべての入口および出口表面 |
高出力用 薄膜プレート ビームスプリッター(偏光子)
高出力薄膜プレート偏光子は、
特に高出力パルスおよびCWレーザーアプリケーションで使用するために開発されました。
ブリュースターの角度で動作するように設計されており、
入射した偏光されていない単色ビームをS偏光成分とP偏光成分に分離します。
透過ビームでは、消光比（Tp / Ts）が200：1（λ> 400 nmの場合）
および100：1（λ<400 nmの場合）を超えています。
最大効率は、θBを中心としたプレートの微調整によって達成されます。
これらの全誘電体コーティングは、波長と入射角に非常に敏感です。
RMI標準仕様
| 材質 |
BK7, UVFS, FS、CaF2
|
| 入射角 | ブリュースターの角度(θΒ) |
| 表面 | BK7, UVFS, FS : λ/20 で 633 nm |
| CaF2 : λ/10 で 633 nm | |
| 表面精度 | BK7, UVFS, FS : 10-5 |
| CaF2 : 20-10 | |
| 直径誤差 | + 0.000″, – 0.010″ |
| 厚さ誤差 | ± 0.010″ |
| ウェッジ | ≤ 3 arc minutes |
| チャンファー | 0.010″ – 0.030″ at 45º |
| 有効径 | エッジ寸法の中央85% |
| 反射率 | λ < 400 nm : Rs ≥ 99% |
| λ ≥ 400 nm : Rs ≥ 99.5% | |
| 透過率 | λ < 400 nm : Tp > 90% |
| λ ≥ 400 nm : Tp > 95% | |
| 消光比 | λ < 400 nm : Tp/Ts > 100:1 |
| λ ≥ 400 nm : Tp/Ts > 200:1 |
赤外(IR) 薄膜プレート ビームスプリッター(偏光子)
赤外薄膜プレートビームスプリッターは、
特に高出力CO2レーザーアプリケーションで使用するために開発されました。
ブリュースターの角度で動作するように設計されており、
入射した偏光されていない単色ビームをS偏光成分とP偏光成分に分離します。
透過ビームの消光比（Tp / Ts）が100：1を超えています。
最大効率は、θBを中心としたプレートの微調整によって達成されます。
これらのすべての誘電体コーティングは、波長と入射角に非常に敏感です。
RMI標準仕様
| 材質 | ZnSe, Ge, カルコゲンナイドガラス |
| 入射角 ブリュースターの角度(θΒ) |
ZnSe : 67.4° で10.6 µm |
| Ge, カルコゲンナイドガラス : 76.0° at 10.6 µm | |
| 設計波長 | 10.6 μm |
| 表面精度 | λ/40 で 10.6 µm, 両面 |
| スクラッチディグ | 40 – 20, 両面 |
| 直径誤差 | + 0.000″, – 0.010″ |
| 厚さ誤差 | ± 0.010″ |
| ウェッジ | ≤ 3 arc minutes |
| チャンファー | 0.010″ – 0.030″ at 45º |
| 有効径 | エッジ寸法の中央85% |
| 反射率 | Rs ≥ 99% |
| 透過率 | Tp ≥ 90% |
| 消光比 | Tp/Ts ≥ 100:1 |
