Rocky Mountain Instrument Co.
1957年に設立されたRMI社は、光学部品およびコーティング業界で長い経験を持つ精密光学のリーディングカンパニーです。
深紫外線から遠赤外線までの幅広い波長範囲で動作する精密光学機器を専門としています。
広範囲の赤外(IR)、可視光(VIS)/ 近赤外(NIR)、
およびUV基板にわたって高品質の光学ウィンドウ/フラットを製造しています。
標準アイテムの在庫レベルを維持しながら、サファイア、シリコン、アムティア、BaF2などの
難しい材料を含むカスタム品にも特化しています。
長い歴史の中で、私たちは豊富な知識を蓄積し、品質、信頼性、
および手頃な価格を確保するための高度な製造技術を開発してきました。
平面ウィンドウは、レーザーウィンドウ、出力カプラー、ビームスプリッター、
ビームコンバイナー、ミラー、ダイクロイックフィルター、プレート偏光子など、
さまざまなアプリケーションの基板として使用されます。
窓基板を選択する際の考慮事項には、透過範囲、吸収係数、入射レーザー出力密度、
および圧力、温度、湿気、摩耗、腐食などの環境要因が含まれます。
UV / VIS / NIR基板の下にリストされている平面ウィンドウは、
193 nm≤λ≤2.0 µmのコーティング波長を含むアプリケーション用に指定されています。
IR基板の下にリストされているプレーンウィンドウは、コーティング波長λ≤2.0 µmを含む
アプリケーション用に指定されています。
円形、正方形、および長方形のウィンドウは、さまざまなサイズと形状の仕様で利用できます。
| 材料 |
BK7, UVFS, FS, CaF2, MgF2, BaF2, ZnSe, Ge, Si, Cleartran,
サファイア(ご要望に応じて、その他のガラスとクリスタルタイプもご用意できます)
|
| 表面精度(両面) | BK7, UVFS, FS : λ/10 at 633 nm |
| CaF2, IR grade CaF2, MgF2, BaF2 : λ/4 at 633 nm | |
| ZnSe, ZnS, Ge, Si, Cleartran, カルコゲナイトガラス: λ/40 at 10.6 µm | |
| サファイア : λ/4 at 633 nm | |
| スクラッチディグ | BK7, UVFS, FS : 10-5 |
| CaF2, IR grade CaF2, MgF2, BaF2 : 20-10 | |
| ZnSe, ZnS, Ge, Si, Cleartran, カルコゲナイトガラス : 40-20 | |
| サファイア : 20-10 | |
| 直径誤差 | + 0.000″, – 0.025″ |
| 厚さ誤差 | ± 0.025″ |
| 半径公差 | ± 0.5% |
| 中心誤差 | < 3 arc minutes |
| チャンファー | 0.010″ – 0.030″ at 45º |
| 有効径 | 中心から85% |
これらのウィンドウは、透過ビームの角度偏差を
できるだけ小さく保つ必要があるアプリケーションに適しています。
また、ウィンドウの挿入と取り外しを繰り返し行うことで、
アライメント誤差も最小限に抑えられます。
円形、正方形、および長方形のウィンドウは、さまざまなサイズと形状の仕様で利用できます。
| 材料 |
BK7, UVFS, FS, CaF2, IR grade CaF2, MgF2, BaF2, ZnSe, ZnS, Ge, Si, Cleartran, カルコゲナイドガラス,サファイア
(ご要望に応じて、その他のガラスとクリスタルタイプもご用意できます)
|
| 表面精度(両面) | BK7, UVFS, FS : λ/10 at 633 nm |
| CaF2, IR grade CaF2, MgF2, BaF2 : λ/4 at 633 nm | |
| ZnSe, ZnS, Ge, Si, Cleartran, カルコゲナイトガラス: λ/40 at 10.6 µm | |
| サファイア : λ/4 at 633 nm | |
| スクラッチディグ | BK7, UVFS, FS : 10-5 |
| CaF2, IR grade CaF2, MgF2, BaF2 : 20-10 | |
| ZnSe, ZnS, Ge, Si, Cleartran, カルコゲナイトガラス : 40-20 | |
| サファイア : 20-10 | |
| 直径誤差 | + 0.000″, – 0.010″ |
| 厚さ誤差 | ± 0.010″ |
| ウェッジ | ≤ 5 arc minutes |
| チャンファー | 0.02″at 45º typical |
| 有効径 | 中心から85% |
大型ウェッジウィンドウは、平面ウィンドウの前面と背面の間の
複数の反射によって引き起こされる干渉効果を大幅に削減または排除します。
これらは、非常に敏感なレーザーのゲイン媒体から2番目の表面からの反射を
完全に排除する必要があるレーザー出力カプラーの基板としての使用に適しています。
大きなウェッジウィンドウは、干渉計フラットとも呼ばれます。
一対の同一のウェッジを使用して、調整可能なビームステアリングデバイスを作成します。
円形、正方形、および長方形のウィンドウは、さまざまなサイズと形状の仕様で利用できます。
| 材質 | BK7, UVFS |
| 表面精度：両面 | BK7, UVFS: λ/20 at 633 nm |
| スクラッチディグ：両面 | BK7, UVFS: 10-5 |
| 直径誤差 | + 0.000″, – 0.010″ |
| 厚さ誤差 | ± 0.010″ |
| ウェッジ | ± 5 arc minutes |
| チャンファー | 0.02″at 45º typical |
| 有効径 | 中心から85% |
ブリュースターウィンドウは、
ブリュースターの角度で使用するために設計されたウィンドウです。
（通常はコーティングされていません）。
これは、入射p偏光のみの透過損失が0％になる角度です。
これらは、直線偏光を密閉された光学システムに結合し、
光共振器内を移動する光の偏光を選択するための経済的なオプションです。
ブリュースターの角度は、次の方程式を使用して計算できます。
θ B =逆正接（NW / NA）
ここでθ Bは、ブリュースター角とNWであり、
それぞれのウィンドウと周囲ための屈折率であり、naは通常、空気の場合は1とみなされます。
楕円形もご用意しております。
| 材質 | BK7, UVFS, FS |
| 入射角 | ブリュースターの角度(θΒ) |
| 透過波面 | BK7, UVFS, FS: λ/10 at 633 nm |
| 表面精度：両面 | BK7, UVFS, FS: 10-5 |
| 直径誤差 | + 0.000″, – 0.010″ |
| 厚さ誤差 | ± 0.010″ |
| ウェッジ | ブリュースター：≤ 10 seconds |
| 楕円：≤ 3 minutes | |
| 有効径 | 中心から85% |
ブリュースターウィンドウは主にレーザー共振器で使用され、
高度な偏光純度のビームを生成します。
非偏光がコーティングされていない基板にブリュースター角で入射すると、
反射部分は完全にS偏光になり、透過部分は部分的にP偏光になります。
基板を複数回通過すると、透過ビームのS成分が大幅に減少し、P偏光の出力が高くなります。
これらの基板に多層薄膜偏光子コーティングを適用して、
基板を1回通過する際の効率と消光比を大幅に改善できます。
ブリュースターウィンドウは、直線偏光を密閉された光学システムに結合し、
光共振器を通過する光の偏光を選択するための経済的なオプションです。
ブリュースターの角度は、次の方程式を使用して計算できます。
θB=Arctan(nw/na)
ここで、θBはブリュースターの角度で、nwとnaはそれぞれウィンドウと周囲の屈折率です。
naは通常、空気の場合は1とみなされます。
| 素材 | ZnSe, Ge, カルコゲナイドガラス |
| 入射角：ブリュースターの角度 | ZnSe: 67.4º at 10.6 µm |
| Ge, カルコゲナイドガラス: 76.0º at 10.6 µm | |
| 表面精度：両面 | ZnSe, Ge, カルコゲナイドガラス : λ/20 at 10.6 µm |
| スクラッチディグ：両面 | ZnSe, Ge, カルコゲナイドガラス : 40-20 |
| 直径誤差 | + 0.000″, – 0.010″ |
| 厚さ誤差 | ± 0.010″ |
| ウェッジ | ≤ 3 arc minute |
| チャンファー | 0.02″ at 45º typical |
| 有効径 | 中心から85% |
