研究者・デバイス開発者に選ばれる理由
VIGO Photonics の Epiウェハーが研究者・デバイス開発者に選ばれる理由を、技術的観点から詳しくご紹介します。
01. 高品質 × 高再現性のエピタキシャル成長
光デバイス開発において最も重要な要素は、結晶欠陥・組成ばらつき・膜厚制御の精度です。
VIGOは MBE / MOCVD による卓越したプロセス制御により、以下を実現しています:
- 層厚ばらつきの最小化
- 結晶欠陥密度の低減
- 材料組成・ドーピング濃度の高精度制御
「毎回同じ品質で成長できる」という特性は、特に研究用途で高く評価されています。
02. VCSEL・QCL・InGaAsなど用途ごとに最適化できるカスタム設計
用途により必要な層構造・材料パラメータは大きく異なります。
VIGOは以下のような構造に対応し、用途別に最適なエピタキシャル設計をご提供します:
- 量子井戸(QW)構造
- 量子ドット(QD)構造
- 多層吸収層構造(検出器向け)
- ドーピングプロファイル最適化
- DBR(分布ブラッグ反射)構造(VCSEL向け)
レーザー・検出器・電子デバイスなど、目的に応じて最適な層構造をご提案します。
03. 数枚から作れる少量テストバッチ対応(研究用途に最適)
一般的な大手Epiメーカーでは少量バッチ(2〜3枚)での対応が難しいケースがあります。
VIGO Photonicsは研究・プロトタイプ開発に最適な体制を整えています:
- 2〜5枚からの少量試作に対応
- 仕様変更にも柔軟に対応可能
- 評価フィードバックに基づく再設計が可能
04. 研究開発を支える技術サポート
研究開発プロジェクトでは、試作から評価・改善までのスピードが重要です。
VIGOは以下のサポートを提供します:
- デバイス仕様・狙い特性の共有
- 層構造設計案のご提案
- プロセス条件の最適化
- 量産化を見据えた構造設計
05. FITの国内サポートで安心(日本語で仕様調整が可能)
海外メーカーとのやり取りで生じがちな課題を、FIT が国内で解消します:
- 海外特有のコミュニケーションロスを解消
- 日本語で仕様・納期・技術相談が可能
- 研究用途でもスムーズにやり取りができ安心
仕様調整・カスタム設計の流れ
研究用途の少量試作から量産フェーズまで、VIGO Photonics の Epiウェハーは
段階的なプロセスを通じて設計・製造されます。
① 使用デバイス・波長帯・要求特性のヒアリング
想定しているデバイス種別(VCSEL・QCL・検出器など)や波長帯、必要とされる感度・出力・動作温度などの要求仕様をお伺いし、
層構造検討の前提条件を整理します。
② 最適構造のご提案(日本語対応)
ヒアリング内容をもとに、材料系・層構造・ドーピングプロファイルなどを検討し、
日本語でわかりやすく整理したエピタキシャル構造案をご提案します。
③ 試作Epiウェハー製造(少量バッチ対応)
合意いただいた仕様にもとづき、MBE / MOCVD による試作エピウェハーを
少量バッチ(2〜5枚程度)から製造します。試作段階での仕様変更や微調整にも柔軟に対応します。
④ 評価・フィードバック
お客様側での評価結果(デバイス特性・歩留まり・ばらつきなど)を共有いただき、
必要に応じて層構造やプロセス条件の見直し・最適化を行います。
⑤ 量産対応へスケールアップ
最終仕様が固まりましたら、量産バッチへのスケールアップや長期供給体制の確認を行います。
量産立ち上げ後も、仕様維持・改善に向けた技術サポートを継続します。
FIT が窓口となり、仕様検討から試作・評価・量産まで一貫してサポートします。
お問い合わせ(技術相談・仕様検討)
研究用途の少量試作から量産検討まで、お気軽にお問い合わせください。
- VCSEL / QCL / InGaAs など用途ごとの最適構造をご提案します
- エピ構造のカスタム仕様も柔軟に対応します
- 技術資料・構造相談も承ります
※ 以下のフォームよりお問合せください